第五章承上启下的发现（第4页）

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而电流不会通过硅表面几纳米内的晶体管泄漏，因为那里的表面电势受到栅极电压的良好控制，这一概念，正是mosFeT进行互连建模在实验室进行复现后现的。

周新不可能告诉胡正明，这是你自己现的。

不过由于周新对于胡正明最重要的论文，都做过精读，对于当时是如何思考，有自己的分析。

这些分析和二十年后的老胡交流过程中，也获得了对方的认可。

甚至我带过的很多博士生在毕业的时候，在这方面的能力都不如你。”

胡正明没有给周新设置太高的门槛，博士生入学考试的难度。

当然这个难度对于华国的大二学生来说，换成除了周新，任何一个人来都做不出来。

这不是水平的差距，而是全方位的差距。

不管是教材、教师水平、学习的深度等等，大二和博士生入学考试之间隔着很厚的壁垒。

更别说还要通过全英文作答。

“如果我没能通过考试呢？”

周新在电话里反问道。

胡正明笑了笑：“只要你能够证明邮件是你本人写的。

那么我也会帮你搞定转校和奖学金的事情。

只是说你需要来伯克利把本科没有上完的课程补完。”

作为半导体界教父级的人物，在伯克利呆了二十多年时间，想要帮学生搞定奖学金，用轻而易举来形容毫不夸张。

胡正明很欣赏周新，不仅仅是因为那封邮件，也是因为对方在沟通中表现出来的坦诚，以及这口流利的英语。

甚至在一些语气词里都和他一样。

周新在阿美利肯期间，主要沟通对象之一就是胡正明，口语主要就是在阿美利肯那几年突飞猛进的。

口语表达上二人当然会有相似之处。

周新在电话那头笑了笑：“好。”

“mosFeT模型可以将em与所有器件参数和偏置电压相关联，描述了它在解释和指导热电子缩放中的用途，你是如何想到通过电路仿真的预测性来对mosFeT进行互连建模？”

跨越数千公里的电话线，两头不仅仅是地理上的距离，更是时间上的距离。

周新给胡正明的解答，是胡正明自己在2ooo年的论文，表在2ooo年的Ieee集成电路会议论文集上，在胡正明过九百篇论文里被引用次数排名第八。

虽然排名不是很高，但是却起到了承上启下的作用。

胡正明最大的贡献是，将半导体的2d结构，研优化出了3d结构，也就是Fi。

从196o年到2o1o年左右，基本的平面（2d）mosFeT结构一直保持不变，直到进一步增加晶体管密度和降低器件功耗变得不可能。

胡正明在加州大学伯克利分校的实验室早在1995年就看到了这一点。

Fi作为第一个3dmosFeT，将扁平而宽的晶体管结构变为高而窄的晶体管结构。好处是在更小的占地面积内获得更好的性能，就像在拥挤的城市中多层建筑相对于单层建筑的优势一样。

Fi也就是所谓的薄体（thin-body）mosFeT，这一概念继续指导新设备的开。

它源于这样一种认识，即电流不会通过硅表面几纳米内的晶体管泄漏，因为那里的表面电势受到栅极电压的良好控制。

Fi牢记这种薄体概念。该器件的主体是垂直的硅鳍片，被氧化物绝缘体和栅极金属覆盖，在强栅极控制范围之外没有留下任何硅。Fi将漏电流降低了几个数量级，并降低了晶体管工作电压。它还指出了进一步改进的路径：进一步降低厚度。